从光刻机到人才资源,中芯国际和台积电之间到底有多大的差距?
光刻
作者: 嘟嘟聊数码
2021-01-13 07:12:59
[ 闻蜂导读 ] 尽管 中芯国际 这段时间有了不少振奋人心的消息,但是不得不承认,中芯国际和台积电这样的顶级芯片代工厂来说仍然存在很大差距,如果是几十纳米下的中低端芯片,或许中芯国际可以在技术上和台积电较量一下,但是一旦到了高端芯片领域,台积电的5nm制程芯片已经可以量产,而到了2021年还会上马3nm制程芯片,而中芯国际目前最先进的量产芯片也不过是14nm工艺,差距非常

尽管中芯国际这段时间有了不少振奋人心的消息,但是不得不承认,中芯国际和台积电这样的顶级芯片代工厂来说仍然存在很大差距,如果是几十纳米下的中低端芯片,或许中芯国际可以在技术上和台积电较量一下,但是一旦到了高端芯片领域,台积电的5nm制程芯片已经可以量产,而到了2021年还会上马3nm制程芯片,而中芯国际目前最先进的量产芯片也不过是14nm工艺,差距非常大。

从时间节点上来看的话,中芯国际是在2019年底才开始量产14nm工艺芯片,而且产能并不算乐观,占中芯国际整个芯片生产线的比重也非常低,而台积电早在多年前就直接跳过了14nm工艺,从16nm直接来到了10nm,两者的进度差距接近4年时间,换句话说的话,现在的中芯国际可能只相当于2015年前后的台积电。

不过我们也看到,中芯国际在制程技术上也在不断赶超,比如中芯国际的N+1和N+2工艺将在2021年量产,而到了2021年底,可能台积电的3nm工艺芯片也能够进行量产,如果一切顺利的话,那么中芯国际在半导体制程技术上应该和台积电的差距越来越小了,不至于一个工艺节点就被拉开好几年的时间,这是乐观的一方面。

关系到芯片制造的重要设备就是光刻机,目前中芯国际还是最缺乏EUV光刻机,虽说不用EUV光刻机的话,也能制造7nm及以下的芯片,但是效率和成本太不占优势了,所以EUV光刻机是早晚都要用的。但是中芯国际目前还无法得到足够的EUV光刻机,国内也造不出来,如果ASML持续不向中芯国际出售EUV光刻机的话,那么未来可能和台积电的差距再度被拉开很远。

当然,EUV光刻机毕竟只是设备,还无法起到决定性作用,就像三星也有EUV光刻机,但是在7nm和5nm节点就比不上台积电,而即使是使用DUV光刻机,台积电也可以顺利量产7纳米芯片,三星就做不到。所以说,芯片制造行业的技术研发人员也非常重要,台积电比起中芯国际来说,有更多的人才优势,未来如何从全球吸引更多人才驻扎,对中芯国际未来的发展进步有很大的作用。

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